2019 Etsegass av god kvalitet 99,999 % renhet CF4 Tetrafluormetan CF4 Gass

Vårt foretak har som mål å operere trofast, tjene alle våre potensielle kunder, og jobbe med ny teknologi og ny maskin ofte for 2019 God kvalitet Etsegass 99,999 % renhet CF4 Tetrafluormetan CF4 Gass, Vi ønsker hjertelig velkommen kunder over hele verden ser ut til å besøke vår produksjon anlegg og ha et vinn-vinn samarbeid med oss!
Vårt foretak har som mål å operere trofast, tjene alle våre potensielle kunder og jobbe med ny teknologi og nye maskiner ofte forKina CF4-gass og karbontetrafluoridgass, Kundens tilfredshet er alltid vår søken, å skape verdi for kundene er alltid vår plikt, et langsiktig gjensidig fordelaktig forretningsforhold er det vi gjør for. Vi er en absolutt pålitelig partner i ditt tilfelle i Kina. Selvfølgelig kan andre tjenester, som rådgivning, også tilbys.

Tekniske parametere

Karbontetrafluorid er et halogenert hydrokarbon med den kjemiske formelen CF4. Det kan betraktes som et halogenert hydrokarbon, halogenert metan, perfluorkarbon eller som en uorganisk forbindelse. Karbontetrafluorid er en fargeløs og luktfri gass, uløselig i vann, løselig i benzen og kloroform. Stabil under normal temperatur og trykk, unngå sterke oksidanter, brennbare eller brennbare materialer. Ikke-brennbar gass, det indre trykket i beholderen vil øke når den utsettes for høy varme, og det er fare for sprekkdannelse og eksplosjon. Den er kjemisk stabil og ikke brennbar. Bare flytende ammoniakk-natriummetallreagens kan fungere ved romtemperatur. Karbontetrafluorid er en gass som forårsaker drivhuseffekten. Den er veldig stabil, kan oppholde seg lenge i atmosfæren, og er en veldig kraftig drivhusgass. Karbontetrafluorid brukes i plasmaetsingsprosessen til forskjellige integrerte kretsløp. Den brukes også som lasergass, og brukes i lavtemperaturkjølemidler, løsemidler, smøremidler, isolasjonsmaterialer og kjølevæsker for infrarøde detektorer. Det er den mest brukte plasmaetsegassen i mikroelektronikkindustrien. Det er en blanding av tetrafluormetan gass med høy renhet og tetrafluormetan gass med høy renhet og oksygen med høy renhet. Det kan brukes mye i silisium, silisiumdioksid, silisiumnitrid og fosfosilikatglass. Etsing av tynnfilmmaterialer som wolfram og wolfram er også mye brukt i overflaterengjøring av elektroniske enheter, solcelleproduksjon, laserteknologi, lavtemperaturkjøling, lekkasjeinspeksjon og vaskemiddel i produksjon av trykte kretser. Brukes som lavtemperaturkjølemiddel og plasmatørretsingsteknologi for integrerte kretsløp. Forholdsregler for oppbevaring: Oppbevares i et kjølig, ventilert ikke-brennbart gasslager. Holdes unna brann og varmekilder. Lagringstemperaturen bør ikke overstige 30°C. Den bør oppbevares atskilt fra lett (brennbare) brennbare stoffer og oksidanter, og unngå blandet lagring. Lagerområdet bør være utstyrt med nødbehandlingsutstyr for lekkasje.

Søknad:

① Kjølemiddel:

Tetrafluormetan brukes noen ganger som et lavtemperaturkjølemiddel.

② Etsning:

Det brukes i elektronikk mikrofabrikasjon alene eller i kombinasjon med oksygen som et plasmaetsemiddel for silisium, silisiumdioksyd og silisiumnitrid.

Normal pakke:

Fordel:

①Høy renhet, nyeste anlegg;

②ISO-sertifikatprodusent;

③Rask levering;

④On-line analysesystem for kvalitetskontroll i hvert trinn;

⑤Høye krav og grundig prosess for håndtering av sylinder før fylling;Vårt foretak har som mål å operere trofast, tjene alle våre potensielle kunder, og jobbe med ny teknologi og ny maskin ofte for 2019 God kvalitet Etsegass 99,999 % renhet CF4 Tetrafluormetan CF4 Gass, Vi ønsker hjertelig velkommen kunder over hele verden ser ut til å besøke vår produksjon anlegg og ha et vinn-vinn samarbeid med oss!
2019 god kvalitetKina CF4-gass og karbontetrafluoridgass, Kundens tilfredshet er alltid vår søken, å skape verdi for kundene er alltid vår plikt, et langsiktig gjensidig fordelaktig forretningsforhold er det vi gjør for. Vi er en absolutt pålitelig partner i ditt tilfelle i Kina. Selvfølgelig kan andre tjenester, som rådgivning, også tilbys.