Kina nytt produkt høy kvalitet 99,9% ~ 99,999% karbon tetrafluorid CF4 kjølemediumgass

Målet vårt ville være å oppfylle våre shoppere ved å tilby gylden selskap, veldig god verdi og god kvalitet for Kina Nytt produkt av høy kvalitet 99,9% ~ 99.999% karbon tetrafluorid CF4 kjølemedium, velkommen til alle kunder for bolig og i utlandet for å dra til vårt selskap, for å skaffe en fantastisk langsiktig av vårt samarbeid.
Målet vårt ville være å oppfylle våre kjøpere ved å tilby gylden selskap, veldig god verdi og god kvalitet forKina CF4 Gass og karbon tetrafluoridgass, Hvis du trenger å ha noen av varene våre, eller har andre ting å produsere, må du sørge for å sende oss dine henvendelser, prøver eller i dybdegående tegninger. I mellomtiden, med sikte på å utvikle oss til en internasjonal bedriftsgruppe, ser vi frem til å motta tilbud for joint ventures og andre samarbeidsprosjekter.

Tekniske parametere

Karbondetrafluorid er et halogenert hydrokarbon med den kjemiske formelen CF4. Det kan betraktes som et halogenert hydrokarbon, halogenert metan, perfluorokarbon eller som en uorganisk forbindelse. Karbon tetrafluorid er en fargeløs og luktfri gass, uoppløselig i vann, oppløselig i benzen og kloroform. Stabil under normal temperatur og trykk, unngå sterke oksidanter, brennbare eller brennbare materialer. Ikke-brennbar gass, det indre trykket til beholderen vil øke når den blir utsatt for høy varme, og det er fare for sprekker og eksplosjon. Det er kjemisk stabilt og ikke-brennbar. Bare flytende ammoniakk-natriummetallreagens kan fungere ved romtemperatur. Karbondetrafluorid er en gass som forårsaker drivhusffekten. Den er veldig stabil, kan holde seg i atmosfæren i lang tid, og er en veldig kraftig klimagass. Karbondetrafluorid brukes i plasmaetsetingsprosessen til forskjellige integrerte kretsløp. Den brukes også som en lasergass, og brukes i kjølemedier med lav temperatur, løsningsmidler, smøremidler, isolerende materialer og kjølevæske for infrarøde detektorer. Det er den mest brukte plasmaets etsegass i mikroelektronikkindustrien. Det er en blanding av tetrafluormetan med høy renhet og tetrafluormetan med høy renhet og oksygen med høy renhet. Det kan brukes mye i silisium, silisiumdioksid, silisiumnitrid og fosfosilikatglass. Etsing av tynne filmmaterialer som wolfram og wolfram er også mye brukt i overflatens rengjøring av elektroniske enheter, solcelleproduksjon, laserteknologi, lavtemperatur kjøling, lekkasjeinspeksjon og vaskemiddel i trykt kretsproduksjon. Brukes som en lavtemperatur kjølemedium og plasma tørr etseteknologi for integrerte kretsløp. Forholdsregler for lagring: Oppbevares i et kjølig, ventilert ikke-brennbart gasselager. Hold deg unna brann og varmekilder. Lagringstemperaturen skal ikke overstige 30 ° C. Den skal lagres separat fra enkelt (brennbare) brennbare og oksidanter, og unngå blandet lagring. Lagringsområdet skal være utstyrt med lekkasje nødbehandlingsutstyr.

Søknad:

① Kjølemedium:

Tetrafluormetan brukes noen ganger som et kjølemedium med lav temperatur.

② Etsing:

Det brukes i elektronikkmikrofabrikasjon alene eller i kombinasjon med oksygen som et plasmaetchant for silisium, silisiumdioksid og silisiumnitrid.

Normal pakke:

Fordel:

①Høy renhet, siste anlegg;

②iso sertifikatprodusent;

③ rask levering;

④on-linjeanalysesystem for kvalitetskontroll i hvert trinn;

⑤ Høyt krav og grundig prosess for håndtering av sylinder før fylling;Målet vårt ville være å oppfylle våre shoppere ved å tilby gylden selskap, veldig god verdi og god kvalitet for Kina Nytt produkt av høy kvalitet 99,9% ~ 99.999% karbon tetrafluorid CF4 kjølemedium, velkommen til alle kunder for bolig og i utlandet for å dra til vårt selskap, for å skaffe en fantastisk langsiktig av vårt samarbeid.
Kina nytt produktKina CF4 Gass og karbon tetrafluoridgass, Hvis du trenger å ha noen av varene våre, eller har andre ting å produsere, må du sørge for å sende oss dine henvendelser, prøver eller i dybdegående tegninger. I mellomtiden, med sikte på å utvikle oss til en internasjonal bedriftsgruppe, ser vi frem til å motta tilbud for joint ventures og andre samarbeidsprosjekter.