Kina Nytt produkt av høy kvalitet 99,9 % ~ 99,999 % karbontetrafluorid CF4 kjølemiddelgass

Vårt mål er å tilfredsstille våre kunder ved å tilby et gyllent selskap, svært god verdi og god kvalitet for Kinas nye produkt av høy kvalitet 99,9 % ~ 99,999 % karbontetrafluorid CF4 kjølemiddelgass. Velkommen til alle kunder i inn- og utland til å besøke vårt selskap, for å skape et fantastisk langsiktig samarbeid gjennom vårt samarbeid.
Vårt mål er å tilfredsstille kundene våre ved å tilby et gyllent selskap, god valuta for pengene og god kvalitet.Kina CF4-gass og karbontetrafluoridgassHvis du trenger noen av våre varer, eller har andre varer som skal produseres, må du sende oss dine forespørsler, prøver eller detaljerte tegninger. I mellomtiden, med sikte på å utvikle oss til en internasjonal bedriftsgruppe, ser vi frem til å motta tilbud på joint ventures og andre samarbeidsprosjekter.

Tekniske parametere

Karbontetrafluorid er et halogenert hydrokarbon med den kjemiske formelen CF4. Det kan betraktes som et halogenert hydrokarbon, halogenert metan, perfluorkarbon eller som en uorganisk forbindelse. Karbontetrafluorid er en fargeløs og luktfri gass, uløselig i vann, løselig i benzen og kloroform. Stabil under normal temperatur og trykk, unngå sterke oksidanter, brannfarlige eller brennbare materialer. Ikke-brennbar gass, det indre trykket i beholderen vil øke når den utsettes for høy varme, og det er fare for sprekkdannelse og eksplosjon. Den er kjemisk stabil og ikke-brennbar. Bare flytende ammoniakk-natriummetallreagens kan fungere ved romtemperatur. Karbontetrafluorid er en gass som forårsaker drivhuseffekten. Den er veldig stabil, kan holde seg i atmosfæren i lang tid og er en veldig kraftig drivhusgass. Karbontetrafluorid brukes i plasmaetsingsprosessen for forskjellige integrerte kretser. Det brukes også som lasergass, og brukes i lavtemperaturkjølemidler, løsemidler, smøremidler, isolasjonsmaterialer og kjølevæsker for infrarøde detektorer. Det er den mest brukte plasmaetsegassen i mikroelektronikkindustrien. Det er en blanding av tetrafluormetan høyrens gass og tetrafluormetan høyrens gass og høyrens oksygen. Den kan brukes mye i silisium, silisiumdioksid, silisiumnitrid og fosfosilikatglass. Etsing av tynnfilmmaterialer som wolfram og wolfram er også mye brukt i overflaterengjøring av elektroniske enheter, solcelleproduksjon, laserteknologi, lavtemperaturkjøling, lekkasjeinspeksjon og vaskemiddel i produksjon av trykte kretser. Brukes som lavtemperaturkjølemiddel og plasmatørretsningsteknologi for integrerte kretser. Forholdsregler for lagring: Oppbevares kjølig og ventilert, ikke-brennbart gasslager. Holdes unna ild og varmekilder. Lagringstemperaturen bør ikke overstige 30 °C. Den bør lagres separat fra lett (brennbare) brennbare stoffer og oksidanter, og unngå blandet lagring. Lagringsområdet bør være utstyrt med nødbehandlingsutstyr for lekkasjer.

Søknad:

① Kjølemiddel:

Tetrafluormetan brukes noen ganger som et lavtemperaturkjølemiddel.

② Etsing:

Det brukes i elektronikkmikrofabrikasjon alene eller i kombinasjon med oksygen som et plasmaetsemiddel for silisium, silisiumdioksid og silisiumnitrid.

Vanlig pakke:

Fordel:

①Høy renhet, nyeste anlegg;

②ISO-sertifikatprodusent;

③Rask levering;

④Online analysesystem for kvalitetskontroll i hvert trinn;

⑤Høye krav og grundig prosess for håndtering av sylinder før fylling;Vårt mål er å tilfredsstille våre kunder ved å tilby et gyllent selskap, svært god verdi og god kvalitet for Kinas nye produkt av høy kvalitet 99,9 % ~ 99,999 % karbontetrafluorid CF4 kjølemiddelgass. Velkommen til alle kunder i inn- og utland til å besøke vårt selskap, for å skape et fantastisk langsiktig samarbeid gjennom vårt samarbeid.
Kina Nytt produktKina CF4-gass og karbontetrafluoridgassHvis du trenger noen av våre varer, eller har andre varer som skal produseres, må du sende oss dine forespørsler, prøver eller detaljerte tegninger. I mellomtiden, med sikte på å utvikle oss til en internasjonal bedriftsgruppe, ser vi frem til å motta tilbud på joint ventures og andre samarbeidsprosjekter.