Fabrikkpris for Kina 99.9999% høy renhet SIH4 Gass silangass for semi -leder deponeringsprosess

Uansett ny kunde eller tidligere klient, tror vi på lengre periode og pålitelig forhold for fabrikkpris for Kina 99.9999% høy renhet SIH4 GASSilansgassFor semi -lederdeponeringsprosess ønsker vi nye og gamle kjøpere velkommen til å ta kontakt med oss ​​på telefon eller mail oss henvendelser per post for forutsigbare fremtidige selskapsforeninger og oppnå gjensidige prestasjoner.
Uansett ny kunde eller tidligere klient, tror vi på langvarig tidsperiode og pålitelig forhold forKina SIH4, Silansgass, For å imøtekomme flere markedskrav og langsiktig utvikling, er en ny fabrikk på 150 000 kvadratmeter under bygging, som kommer til å bli brukt i 2014. Da skal vi eie en stor produksjonskapasitet. Selvfølgelig kommer vi til å fortsette å forbedre servicesystemet for å oppfylle kundene til kunder, og bringe helse, lykke og skjønnhet til alle.

Tekniske parametere

Silane er en forbindelse av silisium og hydrogen. Det er en generell betegnelse for en serie forbindelser, inkludert monosilane (SIH4), disilane (SI2H6) og noen silisium-hydrogenforbindelser på høyere nivå. Blant dem er Monosilane den vanligste, noen ganger referert til som Silane for kort. Silane er en fargeløs gass med en motbydelig lukt av hvitløk. Løselig i vann, nesten uoppløselig i etanol, eter, benzen, kloroform, silisiumkloroform og silisiumtetraklorid. De kjemiske egenskapene til silaner er mye mer aktive enn alkaner og oksideres lett. Spontan forbrenning kan oppstå når du er i kontakt med luft. Den reagerer ikke med nitrogen under 25 ° C, og reagerer ikke med hydrokarbonforbindelser ved romtemperatur. Brann og eksplosjon av silan er et resultat av reaksjon med oksygen. Silan er ekstremt følsom for oksygen og luft. Silan med en viss konsentrasjon vil også reagere eksplosivt med oksygen ved en temperatur på -180 ° C. Silan har blitt den viktigste spesielle gassen som brukes i halvledermikroelektronikkprosesser, og brukes i fremstilling av forskjellige mikroelektroniske filmer, inkludert enkeltkrystallfilmer, mikrokrystallinsk, polykrystallinsk, silisiumoksid, silisiumnitrid og metallsilicid. De mikroelektroniske anvendelsene av silan utvikler seg fortsatt i dybden: lavtemperatur epitaxy, selektiv epitaxy og heteroepitaxial epitaxy. Ikke bare for silisiumenheter og silisiumsintegrerte kretsløp, men også for sammensatte halvlederinnretninger (galliumarsenid, silisiumkarbid, etc.). Den har også applikasjoner i utarbeidelsen av Superlattice Quantum -brønnmaterialer. Det kan sies at Silane brukes i nesten alle avanserte integrerte kretsproduksjonslinjer i moderne tid. Påføringen av silan som en silisiumholdig film og belegg har utvidet seg fra den tradisjonelle mikroelektronikkindustrien til forskjellige felt som stål, maskiner, kjemikalier og optikk. En annen potensiell anvendelse av silan er fremstilling av keramiske motordeler med høy ytelse, spesielt bruk av silan for å produsere silicid (SI3N4, SIC, etc.) mikroprodukter har tiltrukket seg mer og mer oppmerksomhet.

Søknad:

①elektronisk:

Silan påføres polykrystallinske silisiumlag på silisiumskiver når de produserer halvledere og tetningsmasser.

②Solar:

Silane brukes i produksjon av solcelleanlegg.

③ Industriell:

Det brukes i energisparende grønt glass og påføres tynn filmprosess for dampavsetning.

Normal pakke:

Fordel:

① More enn ti år på markedet;

②iso sertifikatprodusent;

③ rask levering;

④stabil råstoffkilde;

⑤on-linjeanalysesystem for kvalitetskontroll i hvert trinn;

⑥ Høyt krav og grundig prosess for håndtering av sylinder før fylling;

⑦ Rett: elektronisk karakter med høy renhet;

⑧ Bruk: solcellematerialer; lage polysilisium med høy renhet, silisiumoksid og optisk fiber; Farget glassproduksjon.Uansett ny kunde eller tidligere klient, tror vi på lengre periode og pålitelig forhold for fabrikkpris for Kina 99.9999% høy renhet SIH4 GASSilansgassFor semi -lederdeponeringsprosess ønsker vi nye og gamle kjøpere velkommen til å ta kontakt med oss ​​på telefon eller mail oss henvendelser per post for forutsigbare fremtidige selskapsforeninger og oppnå gjensidige prestasjoner.
Fabrikkpris forKina SIH4, Silane Gas, for å imøtekomme flere markedskrav og langsiktig utvikling, er en ny fabrikk på 150 000 kvadratmeter under bygging, som kommer til å bli brukt i 2014. Da skal vi eie en stor kapasitet til å produsere. Selvfølgelig kommer vi til å fortsette å forbedre servicesystemet for å oppfylle kundene til kunder, og bringe helse, lykke og skjønnhet til alle.