Ledende produsent for Octafluorocyclobutane Kina, CAS: 115-25-3

Vi kan normalt oppfylle våre respekterte forbrukere med vår utmerkede, verdifulle og gode leverandør på grunn av at vi er mye mer spesialist og ekstra hardtarbeidende og gjør det på en kostnadseffektiv måte for ledende produsent for Octafluorocyclobutane China, CAS:115-25-3, For de som jakter på høykvalitets, høystabile, aggressive priskomponenter, er organisasjonsnavnet ditt beste valg!
Vi kan normalt oppfylle våre respekterte forbrukere med vår utmerkede, verdifulle og gode leverandør på grunn av at vi er mye mer spesialiserte og ekstra hardtarbeidende og gjør det på en kostnadseffektiv måte for115-25-3, Kina oktafluorcyklobutan, Nå har vi oppriktig vurdert å gi merkeagent på forskjellige områder, og våre agenters maksimale fortjenestemargin er det viktigste vi bryr oss om. Velkommen alle venner og kunder til å bli med oss. Vi har vært klare til å dele vinn-vinn-selskap.

Tekniske parametere

Oktafluorcyklobutan er et kjemisk stoff, et perfluorert derivat av syklobutan, og dets kjemiske formel er C4F8. Fargeløs, luktfri, ikke brennbar gass. Stabil i naturen og ikke giftig. Ved høy varme vil det indre trykket i beholderen øke, og det vil være fare for sprekkdannelse og eksplosjon. Forbrennings(dekomponerings)produktet er hydrogenfluorid. Oktafluorcyklobutan er meget stabilt og reagerer ikke med andre stoffer under normale forhold. Lagrings- og reaksjonskaret kan være laget av støpejern og rustfritt stål ved 120°C, og stål kan brukes ved 175°C. Når det overstiger 400°C, kan Inconel-materialer som nikkel og platina også bli litt skadet. Ved 500°C har disse materialene en katalytisk effekt på dekomponering. Ved høye temperaturer (600°C) kan oktafluorcyklobutan brytes ned til karbon, karbontetrafluorid og giftige forbindelser. Oktafluorcyklobutan har et veldig bredt spekter av bruksområder. De siste årene har det blitt mye brukt som kjølemiddel for å erstatte forbudte klorfluorkarbonforbindelser. I tillegg er det også ofte brukt i gassisolasjonsmedier, løsemidler, sprayer, skummende midler og storskala kretsetsemidler. , Varmepumpe arbeidsvæske og råvarer for produksjon av C2F4 og C3F6 monomerer. Høyrent oktafluorcyklobutan (over 5N) brukes som etsemiddel og rengjøringsmiddel for VLSI-kretser. På grunn av sine stabile egenskaper, ikke-toksisitet, null ozonnedbrytningspotensial (ODP) og gode isolasjon, har oktafluorcyklobutan blitt mye brukt i tekniske felt som høyspenningsisolasjon, rengjøring og etsing, og plasmabehandling de siste årene. Nødreaksjon ved lekkasje: bruk selvforsynt pusteapparat og arbeidsklær. Kutt av gasskilden. Ventilasjon og konveksjon, fortynning og diffusjon. Flytt lekkasjebeholderen til et åpent område og vær oppmerksom på ventilasjonen. Beholdere som lekker kan ikke lenger brukes, og må gjennomgå teknisk behandling for å fjerne gjenværende gass.

Søknad:

① Matindustri:

det brukes hovedsakelig som sprøytemiddel i næringsmiddelindustrien, kjølemiddel.

② Elektronisk industri:

fortryllende for integrert krets, den brukes også som dielektrisk blanding med sf6, og polymeriseringshjelp for fluorerte forbindelser.

Normal pakke:

Fordel:

① Mer enn ti år på markedet;

②ISO-sertifikatprodusent;

③Rask levering;

④ Stabil råvarekilde;

⑤On-line analysesystem for kvalitetskontroll i hvert trinn;

⑥Høye krav og grundig prosess for håndtering av sylinder før fylling;Vi kan normalt oppfylle våre respekterte forbrukere med vår utmerkede, verdifulle og gode leverandør på grunn av at vi er mye mer spesialist og ekstra hardtarbeidende og gjør det på en kostnadseffektiv måte for ledende produsent for Octafluorocyclobutane Kina, CAS: 115-25 -3, For de som jakter på høykvalitets, høystabile, aggressive priskomponenter, er organisasjonsnavnet ditt beste valg!
Ledende produsent forKina oktafluorcyklobutan, 115-25-3, Nå har vi oppriktig vurdert å gi merkeagent på forskjellige områder, og våre agenters maksimale fortjenestemargin er det viktigste vi bryr oss om. Velkommen alle venner og kunder til å bli med oss. Vi har vært klare til å dele vinn-vinn-selskap.