Nylig ankommet Kina CF4-gass med høy renhet for etsing i halvlederindustrien

Vi tror på: Innovasjon er vår sjel og ånd. God kvalitet er livet vårt. Shopper trenger å ha er vår Gud for nylig ankommet Kina CF4-gass med høy renhet for halvlederindustri-etsing. Vi gjør oppriktig vårt beste for å tilby den beste servicen for alle kunder og forretningsmenn.
Vi tror på: Innovasjon er vår sjel og ånd. God kvalitet er livet vårt. Shopper trenger å ha er vår Gud forKina CF4 kjølemiddelgass, Gass sylinder, Nå er konkurransen på dette feltet veldig hard; men vi kommer fortsatt til å tilby best kvalitet, rimelig pris og mest hensynsfull service i et forsøk på å oppnå vinn-vinn-mål. “Endre til det bedre!” er vårt slagord, som betyr "En bedre verden ligger foran oss, så la oss nyte det!" Endre til det bedre! Er du klar?

Tekniske parametere

Karbontetrafluorid er et halogenert hydrokarbon med den kjemiske formelen CF4. Det kan betraktes som et halogenert hydrokarbon, halogenert metan, perfluorkarbon eller som en uorganisk forbindelse. Karbontetrafluorid er en fargeløs og luktfri gass, uløselig i vann, løselig i benzen og kloroform. Stabil under normal temperatur og trykk, unngå sterke oksidanter, brennbare eller brennbare materialer. Ikke-brennbar gass, det indre trykket i beholderen vil øke når den utsettes for høy varme, og det er fare for sprekkdannelse og eksplosjon. Den er kjemisk stabil og ikke brennbar. Bare flytende ammoniakk-natriummetallreagens kan fungere ved romtemperatur. Karbontetrafluorid er en gass som forårsaker drivhuseffekten. Den er veldig stabil, kan oppholde seg lenge i atmosfæren, og er en veldig kraftig drivhusgass. Karbontetrafluorid brukes i plasmaetsingsprosessen til forskjellige integrerte kretsløp. Den brukes også som lasergass, og brukes i lavtemperaturkjølemidler, løsemidler, smøremidler, isolasjonsmaterialer og kjølevæsker for infrarøde detektorer. Det er den mest brukte plasmaetsegassen i mikroelektronikkindustrien. Det er en blanding av tetrafluormetan gass med høy renhet og tetrafluormetan gass med høy renhet og oksygen med høy renhet. Det kan brukes mye i silisium, silisiumdioksid, silisiumnitrid og fosfosilikatglass. Etsing av tynnfilmmaterialer som wolfram og wolfram er også mye brukt i overflaterengjøring av elektroniske enheter, solcelleproduksjon, laserteknologi, lavtemperaturkjøling, lekkasjeinspeksjon og vaskemiddel i produksjon av trykte kretser. Brukes som lavtemperaturkjølemiddel og plasmatørretsingsteknologi for integrerte kretsløp. Forholdsregler for oppbevaring: Oppbevares i et kjølig, ventilert ikke-brennbart gasslager. Holdes unna brann og varmekilder. Lagringstemperaturen bør ikke overstige 30°C. Den bør oppbevares atskilt fra lett (brennbare) brennbare stoffer og oksidanter, og unngå blandet lagring. Lagerområdet bør være utstyrt med nødbehandlingsutstyr for lekkasje.

Søknad:

① Kjølemiddel:

Tetrafluormetan brukes noen ganger som et lavtemperaturkjølemiddel.

② Etsning:

Det brukes i elektronikk mikrofabrikasjon alene eller i kombinasjon med oksygen som et plasmaetsemiddel for silisium, silisiumdioksyd og silisiumnitrid.

Normal pakke:

Fordel:

①Høy renhet, nyeste anlegg;

②ISO-sertifikatprodusent;

③Rask levering;

④On-line analysesystem for kvalitetskontroll i hvert trinn;

⑤Høye krav og grundig prosess for håndtering av sylinder før fylling;Vi tror på: Innovasjon er vår sjel og ånd. God kvalitet er livet vårt. Shopper trenger å ha er vår Gud for nylig ankommet Kina CF4-gass med høy renhet for halvlederindustri-etsing. Vi gjør oppriktig vårt beste for å tilby den beste servicen for alle kunder og forretningsmenn.
Nylig ankommetKina CF4 kjølemiddelgass, Gass sylinder, Nå er konkurransen på dette feltet veldig hard; men vi kommer fortsatt til å tilby best kvalitet, rimelig pris og mest hensynsfull service i et forsøk på å oppnå vinn-vinn-mål. “Endre til det bedre!” er vårt slagord, som betyr "En bedre verden ligger foran oss, så la oss nyte det!" Endre til det bedre! Er du klar?