Nylig ankommet Kina høyrent CF4-gass for etsing i halvlederindustrien

Vi tror på: Innovasjon er vår sjel og ånd. God kvalitet er livet vårt. Kundenes behov er vår Gud for den nye kinesiske høyrente CF4-gassen for etsing i halvlederindustrien. Vi gjør oppriktig vårt beste for å tilby den beste servicen til alle kunder og forretningsmenn.
Vi tror på: Innovasjon er vår sjel og ånd. God kvalitet er livet vårt. Kundenes behov er vår Gud.Kina CF4 kjølemiddelgass, GassflaskeKonkurransen på dette feltet er nå svært hard, men vi skal fortsatt tilby den beste kvaliteten, rimelige priser og den mest hensynsfulle servicen i et forsøk på å oppnå et vinn-vinn-mål. «Forandring til det bedre!» er slagordet vårt, som betyr «En bedre verden ligger foran oss, så la oss nyte den!» Forandring til det bedre! Er du klar?

Tekniske parametere

Karbontetrafluorid er et halogenert hydrokarbon med den kjemiske formelen CF4. Det kan betraktes som et halogenert hydrokarbon, halogenert metan, perfluorkarbon eller som en uorganisk forbindelse. Karbontetrafluorid er en fargeløs og luktfri gass, uløselig i vann, løselig i benzen og kloroform. Stabil under normal temperatur og trykk, unngå sterke oksidanter, brannfarlige eller brennbare materialer. Ikke-brennbar gass, det indre trykket i beholderen vil øke når den utsettes for høy varme, og det er fare for sprekkdannelse og eksplosjon. Den er kjemisk stabil og ikke-brennbar. Bare flytende ammoniakk-natriummetallreagens kan fungere ved romtemperatur. Karbontetrafluorid er en gass som forårsaker drivhuseffekten. Den er veldig stabil, kan holde seg i atmosfæren i lang tid og er en veldig kraftig drivhusgass. Karbontetrafluorid brukes i plasmaetsingsprosessen for forskjellige integrerte kretser. Det brukes også som lasergass, og brukes i lavtemperaturkjølemidler, løsemidler, smøremidler, isolasjonsmaterialer og kjølevæsker for infrarøde detektorer. Det er den mest brukte plasmaetsegassen i mikroelektronikkindustrien. Det er en blanding av tetrafluormetan høyrens gass og tetrafluormetan høyrens gass og høyrens oksygen. Den kan brukes mye i silisium, silisiumdioksid, silisiumnitrid og fosfosilikatglass. Etsing av tynnfilmmaterialer som wolfram og wolfram er også mye brukt i overflaterengjøring av elektroniske enheter, solcelleproduksjon, laserteknologi, lavtemperaturkjøling, lekkasjeinspeksjon og vaskemiddel i produksjon av trykte kretser. Brukes som lavtemperaturkjølemiddel og plasmatørretsningsteknologi for integrerte kretser. Forholdsregler for lagring: Oppbevares kjølig og ventilert, ikke-brennbart gasslager. Holdes unna ild og varmekilder. Lagringstemperaturen bør ikke overstige 30 °C. Den bør lagres separat fra lett (brennbare) brennbare stoffer og oksidanter, og unngå blandet lagring. Lagringsområdet bør være utstyrt med nødbehandlingsutstyr for lekkasjer.

Søknad:

① Kjølemiddel:

Tetrafluormetan brukes noen ganger som et lavtemperaturkjølemiddel.

② Etsing:

Det brukes i elektronikkmikrofabrikasjon alene eller i kombinasjon med oksygen som et plasmaetsemiddel for silisium, silisiumdioksid og silisiumnitrid.

Vanlig pakke:

Fordel:

①Høy renhet, nyeste anlegg;

②ISO-sertifikatprodusent;

③Rask levering;

④Online analysesystem for kvalitetskontroll i hvert trinn;

⑤Høye krav og grundig prosess for håndtering av sylinder før fylling;Vi tror på: Innovasjon er vår sjel og ånd. God kvalitet er livet vårt. Kundenes behov er vår Gud for den nye kinesiske høyrente CF4-gassen for etsing i halvlederindustrien. Vi gjør oppriktig vårt beste for å tilby den beste servicen til alle kunder og forretningsmenn.
Nylig ankommetKina CF4 kjølemiddelgass, GassflaskeKonkurransen på dette feltet er nå svært hard, men vi skal fortsatt tilby den beste kvaliteten, rimelige priser og den mest hensynsfulle servicen i et forsøk på å oppnå et vinn-vinn-mål. «Forandring til det bedre!» er slagordet vårt, som betyr «En bedre verden ligger foran oss, så la oss nyte den!» Forandring til det bedre! Er du klar?