Silaner en forbindelse av silisium og hydrogen, og er en generell betegnelse for en serie forbindelser. Silane inkluderer hovedsakelig monosilane (SIH4), disilane (SI2H6) og noen silisiumhydrogenforbindelser på høyere nivå, med den generelle formelen Sinh2n+2. Imidlertid omtaler vi i den faktiske produksjonen generelt til monosilan (kjemisk formel SIH4) som "silan".

Elektronisk klasseSilansgasser hovedsakelig oppnådd ved forskjellige reaksjonsdestillasjon og rensing av silisiumpulver, hydrogen, silisiumtetraklorid, katalysator, etc. Silan med en renhet på 3N til 4N kalles silan i industriell kvalitet, og silan med en renhet på mer enn 6N kalles elektronisk kvalitet silankass.

Som en gasskilde for å bære silisiumkomponenter,Silansgasshar blitt en viktig spesiell gass som ikke kan erstattes av mange andre silisiumkilder på grunn av dens høye renhet og evne til å oppnå fin kontroll. Monosilan genererer krystallinsk silisium gjennom pyrolysereaksjon, som for tiden er en av metodene for storstilt produksjon av granulært monokrystallinsk silisium og polykrystallinsk silisium i verden.

Silanegenskaper

Silane (SIH4)er en fargeløs gass som reagerer med luft og forårsaker kvelning. Synonymet er silisiumhydrid. Den kjemiske formelen til silan er SIH4, og innholdet er så høyt som 99,99%. Ved romtemperatur og trykk er silan en stygghetende giftig gass. Smeltingspunktet til silan er -185 ℃ og kokepunktet er -112 ℃. Ved romtemperatur er silan stabil, men når den blir oppvarmet til 400 ℃, vil den helt dekomponere til gassformig silisium og hydrogen. Silane er brannfarlig og eksplosiv, og den vil brenne eksplosivt i luft eller halogengass.

Søknadsfelt

Silane har et bredt spekter av bruksområder. I tillegg til å være den mest effektive måten å feste silisiummolekyler til overflaten av cellen under produksjonen av solceller, er den også mye brukt i produksjonsanlegg som halvledere, flatskjermer og belagt glass.

Silaner silisiumkilden for kjemiske dampavsetningsprosesser som enkeltkrystall -silisium, polykrystallinsk silisium epitaksiale skiver, silisiumdioksid, silisiumnitrid og fosfosilikatglass i halvlederindustrien, og er bredt brukt i produksjonen og utviklingen av solceller, silicon.

De siste årene dukker det opp høyteknologiske applikasjoner av silaner fremdeles, inkludert fremstilling av avansert keramikk, sammensatte materialer, funksjonelle materialer, biomaterialer, høyenergi-materialer, etc., og blir grunnlaget for mange nye teknologier, nye materialer og nye enheter.